在電鍍產(chǎn)品加工的過程中將需要用到電鍍液，其純水的水質(zhì)要求電導(dǎo)率在15uS/cm以下，電鍍工業(yè)有專業(yè)的超純水設(shè)備。
　　電鍍超純水設(shè)備制取的純水主要用于電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗，顯像管和陰極射線管生產(chǎn)配料用純水黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)，玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水，只有少量用于藥液配制集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片等。
　　超純水設(shè)備由預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、中間水箱、純水泵、粗混合床、精混合床、紫外線殺菌器、精密過濾器等組合而成。
　　其水處理工藝分為傳統(tǒng)的以及最新的水處理流程，出水水質(zhì)電導(dǎo)率均≥18MΩ.CM：
　　最新：預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象;
　　傳統(tǒng)：預(yù)處理系統(tǒng)-反滲透系統(tǒng)-中間水箱-粗混合床-精混合床-純水箱-純水泵-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象;
　　在電鍍液配制純水以及鍍件漂洗純水時的純水只要在15uS/cm以下，清洗時純水電導(dǎo)率10uS/cm以下，不同的加工過程用到水質(zhì)是不一樣的。
　　純水設(shè)備的優(yōu)勢分析：
　　1、系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、在線水質(zhì)檢測控制儀表、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置等，因此是可以做到無人管理的。
　　2、操作簡單且可連續(xù)性：EDI裝置的產(chǎn)水過程是穩(wěn)定的連續(xù)的，沒有復(fù)雜的操作程序。
　　3、整個水處理過程中是沒有用到任何的化學(xué)藥品的，因此是無酸堿再生。